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產品分類 / PRODUCT
更新時間:2026-01-08
瀏覽次數:30測量對象廣泛
可檢測總銅(通過消解將絡合銅、有機銅轉化為 Cu2?)或特定形態銅離子,適配廢水、飲用水等復雜基質樣品,而 ISE 法僅能直接檢測游離 Cu2?。
抗干擾能力強
基于特異性顯色反應與固定波長吸光度測量,樣品中大部分共存離子(如 Na?、Ca2?、Cl?)不會干擾顯色絡合物的生成,無需復雜的掩蔽處理。
測量精度高、線性范圍寬
符合朗伯 - 比爾定律,線性相關系數通常可達 0.999 以上;測量范圍覆蓋 ppb 至 ppm 級,高濃度樣品可通過稀釋拓展量程,數據重復性好。
結果穩定、漂移小
核心部件(光源、光電傳感器)穩定性強,定期校準后,長時間監測的結果偏差小,適合高精度的實驗室分析或在線監測。
需化學試劑與預處理步驟
必須添加顯色劑、緩沖液等試劑,且復雜樣品需消解、過濾,耗材成本高,同時存在試劑廢液處理問題;在線監測設備需配備自動加藥、消解模塊,結構復雜。
響應速度較慢
顯色反應需要一定時間(通常數分鐘),加上樣品預處理、混勻等步驟,單次測量周期較長,無法實現秒級實時響應。
受樣品濁度、色度影響
若樣品未充分過濾或消解,懸浮物、有色物質會干擾光的透射,導致吸光度測量誤差,需額外的預處理環節。
維護頻率較高
在線設備的管路、比色皿易被樣品中的雜質堵塞或污染,需定期清洗、更換;試劑瓶需及時補充,維護工作量大于 ISE 法。
響應速度極快
電極與樣品中游離 Cu2?的離子交換瞬間完成,秒級即可輸出穩定讀數,無需等待顯色反應,適合在線連續監測(如電鍍液實時監控)。
無需化學試劑,維護簡便
直接通過電極電勢差測量,無需添加顯色劑、消解試劑,無耗材成本,也無廢液處理壓力;在線設備僅需定期校準,日常維護工作量小。
操作簡單,可直讀濃度
儀器內置能斯特方程算法與溫度補償,直接顯示 Cu2?濃度值(mg/L 或 ppm),無需繪制校準曲線計算,適合現場快速檢測。
設備體積小,適配便攜場景
電極探頭體積小,可搭配便攜式主機組成手持設備,適合野外水樣、電鍍槽液的現場快速檢測,無需復雜的樣品前處理。
僅能檢測游離 Cu2?
無法直接檢測絡合銅、有機銅等形態,若需測總銅,需額外進行消解、破絡處理,步驟繁瑣,不如比色法便捷。
抗干擾能力弱
電極敏感膜易受樣品中其他重金屬離子(如 Hg2?、Ag?、Pb2?)干擾,導致電勢漂移;樣品的 pH 值、離子強度也會影響測量結果,需添加緩沖液、掩蔽劑來消除干擾。
測量范圍較窄,易受污染
線性范圍通常為 0.06–6400ppm,超出范圍需稀釋;電極敏感膜易被樣品中的油污、膠體污染,導致響應靈敏度下降,需定期打磨、清洗。
電極壽命有限,漂移相對明顯
銅離子選擇性電極的使用壽命通常為 6–12 個月,長期使用后電極性能會衰減;且受溫度影響較大,若溫度補償不精準,會導致測量誤差。
| 對比維度 | 光學比色法 | 離子選擇性電極法 |
|---|---|---|
| 測量對象 | 總銅 / 特定形態銅離子 | 僅游離 Cu2? |
| 抗干擾能力 | 強(特異性顯色) | 弱(易受重金屬、pH 干擾) |
| 響應速度 | 中(分鐘級) | 快(秒級) |
| 耗材與維護成本 | 中高(試劑、管路維護) | 低(無試劑,僅電極校準) |
| 適用場景 | 廢水總銅、實驗室高精度分析、在線監測 | 電鍍液 Cu2?、循環水在線監測、現場快檢 |
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